经颅磁刺激联合经颅直流电刺激在大脑皮层电场分布的研究

• 作者: 刘志朋 李颖 殷涛 王欣 王贺 靳静娜
• 来源期刊: 生物医学工程研究
• 学科: 医学
• 关键词: 经颅磁刺激 经颅直流电刺激 电场分布 仿真 SimNibs
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: R318
• 字数: 2626字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19529/j.cnki.1672-6278.2019.01.03

摘要

经颅磁刺激(transcranial magnetic stimulation,TMS)和经颅直流电刺激(transcranial direct current stimulation,tDCS)均可用于调控大脑皮层的兴奋性.此前两种技术很少被用于同时刺激大脑皮层的两个不同区域,近期研究表明,同时刺激大脑皮层两个相互连接的区域可以提高刺激效果.为了确保应用安全性并给出实验指导,本研究使用SimNibs进行仿真计算,研究同时应用TMS和tDCS时在大脑皮层产生的两个电场之间的相互作用.结果表明,同时应用TMS和tDCS是安全的,且TMS和tDCS之间的相互作用受线圈和电极之间相对位置的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李颖	中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所	39	222	8.0	14.0
2	靳静娜	中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所	17	102	6.0	9.0
3	刘志朋	中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所	57	317	10.0	13.0
4	王欣	中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所	57	273	10.0	14.0
5	王贺	中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所	12	45	4.0	5.0