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全瓷冠粘接界面缺陷对修复体应力的影响
全瓷冠粘接界面缺陷对修复体应力的影响
作者:
刘勇岗
张东升
徐远志
杨启祥
汪饶饶
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
二硅酸锂
界面
脱粘
缺陷
有限元分析
摘要:
目的 探究当单层全瓷冠修复体与胶层之间存在由于口腔水环境下造成的脱粘以及粘结缺陷时对修复体内部应力分布的影响.方法 以二硅酸锂CAD/CAM单层冠为研究对象,进行三维有限元实体建模.利用有限元软件ABAQUS定义瓷冠内表面与胶层上表面的7个脱粘状态(状态1~7),以及2种界面缺陷的情形(情况I、II).对所建9个模型底部进行完全约束,并在咬合面分别用直径5 mm半球形解析刚体施加600 N竖向载荷以对其进行应力计算.结果 在竖向咬合力作用下,瓷冠内部和胶层上表面应力集中主要出现在脱胶边界处以及缺陷的周边.瓷冠内部的第1主应力没有超过其极限抗拉强度,但胶层中的最大拉应力超过粘结剂的极限抗拉强度,即胶层会发生内聚破坏.结论 瓷冠内壁的粘结完整在维持瓷冠内部整体应力处于较低水平方面有重要作用,粘结界面处缺陷的存在对瓷冠承载力的影响比单纯脱粘面积的增加对瓷冠承载力造成的影响更加显著.为保障全瓷冠修复体的承载能力,在口腔修复临床实践中更应该注意避免引入粘结缺陷.
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文献信息
篇名
全瓷冠粘接界面缺陷对修复体应力的影响
来源期刊
医用生物力学
学科
医学
关键词
二硅酸锂
界面
脱粘
缺陷
有限元分析
年,卷(期)
2019,(4)
所属期刊栏目
论著
研究方向
页码范围
365-371
页数
7页
分类号
R318.01
字数
语种
中文
DOI
10.16156/j.1004-7220.2019.04.005
五维指标
作者信息
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姓名
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发文数
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张东升
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二硅酸锂
界面
脱粘
缺陷
有限元分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
医用生物力学
主办单位:
上海交通大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-7220
CN:
31-1624/R
开本:
大16开
出版地:
上海制造局路639号
邮发代号:
4-633
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
2135
总下载数(次)
2
总被引数(次)
11856
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