基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备

• 作者: 王庆康 王阳培华 胡克想
• 来源期刊: 飞控与探测
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米制造 纳米压印曝光 纳米压印设备 氟化混合物复制软模板
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 光电探测与制导技术
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: TN389|TN23
• 字数: 1815字
• 语种: 中文

摘要

不同特征尺度和不同周期的氟化混合物软复制模板,通过使用硅主模板和紫外纳米压印光刻技术制备而成.与聚二甲基硅氧烷和其他聚合物材料相比,光刻胶具有优良的性能,如优良的机械强度、低表面能和良好的热稳定性等.在紫外和热纳米压印工艺中,主模板被用作印章.实验结果表明,转移到基底上的图案与主模板非常一致.所制备的氟化混合物复制模板不仅适用于紫外纳米压印,也适用于热纳米压印,并且所加工的复制模板还可被用于制备光电器件,以实现传感、成像、探测、通信和数据存储等领域中的相关功能.