利用VAD工艺制造G.657.A2光纤的研究

• 作者: 沈一春 秦钰 钱宜刚
• 来源期刊: 光通信技术
• 学科: 工学
• 关键词: 气相轴向沉积法 G.657.A2 宏弯损耗 波导结构 掺氟
• 年，卷（期）: 2019,（10）
• 所属期刊栏目: 光纤光缆
• 页码范围: 16-21
• 页数: 6页
• 分类号: TN914
• 字数: 5442字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13921/j.cnki.issn1002-5561.2019.10.004

摘要

近年来,G.657.A2光纤已成为高性能接入网广泛使用的光纤.为了实现其优质、高效的批量制造,介绍了利用气相轴向沉积法(VAD)制造G.657.A2光纤的工艺方法,通过优化波导结构设计和制造工艺参数,改善了VAD光纤制造工艺制造G.657.A2芯棒时出现的波导结构和宏弯损耗性能不够稳定的缺点.通过对光纤的宏弯损耗性能进行理论分析,结合VAD光纤制造工艺的工艺特点,确立了光纤的波导结构设计;再对用VAD工艺制造下凹包层波导结构进行研究,通过实验对比明确了具有优越宏弯损耗性能的光纤包层沉积工艺参数.对所研制的G.657.A2光纤进行了测试,结果表明VAD光纤制造工艺的产品性能好且生产效益高,是一种值得推广的G.657.A2弯曲损耗不敏感光纤的制造方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦钰		2	1	1.0	1.0
2	沈一春		7	2	1.0	1.0
3	钱宜刚		5	11	1.0	3.0