点胶法制备量子点阵列的形貌控制与表征

• 作者: 丁学全 张旭 王宿慧 郭腾霄
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 量子点阵列 点胶法制备 点胶机打印 形貌控制
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 998-1002
• 页数: 5页
• 分类号: TQ710
• 字数: 3701字
• 语种: 中文

摘要

为了提升量子点光学器件使用性能,本文提出采用点胶法制备量子点阵列并通过选择组分配比控制量子点胶点形貌.实验使用甲苯和UV胶混合制成量子点胶水溶液,研究了甲苯和UV胶在不同配比下制作的量子点胶点的形貌特征,实验证明当甲苯与UV胶配比合适时,点胶机打印阵列具有形貌良好、发光均匀、无咖啡环效应、打印精度高、阵列整齐等优点,随着组分配比中甲苯含量的增加,量子点胶点圆度、发光均匀性、一致性及排列整齐度均降低.因此通过改变组分配比,可有效控制及优化胶点形貌,提高量子点阵列的一致性与发光均匀性,对提高量子点器件的灵敏度及分辨率等具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宿慧		2	0	0.0	0.0
2	张旭		2	0	0.0	0.0
3	郭腾霄		2	0	0.0	0.0
4	丁学全		2	0	0.0	0.0