低碳钢LF炉硅还原影响因素分析

• 作者: 何志斌 罗开敏 靳随城
• 来源期刊: 冶金工程
• 学科: 工学
• 关键词: LF炉 低碳铝镇静钢 硅还原
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 页码范围: 240-245
• 页数: 6页
• 分类号: TF7

摘要

本文结合350 t LF炉低碳钢冶炼过程数据,分析了LF炉过程参数控制对低碳铝镇静钢回硅的影响。结果表明:LF炉处理结束后,硅的还原反应远没有达到平衡,渣中(SiO2)仍可被还原;随着LF炉初始温度的增加,回硅量逐渐降低;随着铝含量的降低,钢水回硅量逐渐减少,当过程铝含量低于0.03%时,有利于将硅含量控制到0.03%以下;采用铝铁脱氧,使炉渣保持一定的弱氧化性,可以保证脱硫效果的同时,有效降低硅的还原。通过将LF炉初始温度控制在1600℃ ±10℃,过程铝含量控制到0.02%~0.04%,使用铝铁代替铝渣脱氧,同时缩短LF炉处理时间,可以将低碳铝镇静钢硅含量稳定控制到0.03%以下。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	靳随城		3	0	0.0	0.0
2	罗开敏		1	0	0.0	0.0
3	何志斌		1	0	0.0	0.0