磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究

• 作者: 张国家 梁佳静 邓爱民
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化钛薄膜 聚碳酸酯基体 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TN304
• 字数: 1242字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001?3849.2019.05.001

摘要

在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜.应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响.结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙度增大.溅射的薄膜中,晶粒呈圆锥形,随着N2含量的增加,溅射的薄膜粗糙度逐渐下降,晶粒较小,分布较均匀.XRD衍射结果表明,溅射的薄膜晶质成分为TiN.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓爱民	沈阳理工大学材料科学与工程学院	33	174	9.0	11.0
2	梁佳静	沈阳理工大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
3	张国家	沈阳理工大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0