原子层沉积技术在含能材料表面修饰中 的应用研究进展

• 作者: 冯昊 惠龙飞 李建国 秦利军 郝海霞 闫宁 龚婷
• 来源期刊: 火炸药学报
• 关键词: 应用化学 原子层沉积(ALD) 分子层沉积(MLD) 含能材料 表面性质 表面修饰
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 页码范围: 425-431
• 页数: 7页
• 分类号: TJ55|O69
• 语种: 中文
• DOI: 10.14077/j.issn.1007-7812.2019.05.001

摘要

介绍了原子层沉积技术的原理和特点,并对比传统物理及化学气相沉积薄膜制备工艺,总结了原子层沉积技术在含能材料合成及表面修饰改性方面所具有的薄膜厚度精确可控、工作温度低和大面积及三维均匀性方面的优势.综述了原子层沉积技术在亚稳态分子间复合物合成,降低金属粉和炸药感度,以及提高铝粉、氢化铝和ADN稳定性等方面的研究进展.评述了原子层沉积技术在含能材料精确合成及表面修饰中的主要作用及未来发展方向.附参考文献29篇.