金属膜场发射特性研究

• 作者: 王丽军 王小平 郭媚媚
• 来源期刊: 有色金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金属复合膜 场发射 电子束气相沉积
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.1
• 字数: 3106字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13258/j.cnki.nmme.2019.06.001

摘要

结合真空电子束气相沉积(electron beam evaporation deposition,EBVD)和磁控溅射(magnetron sputtering deposition,MSD)技术,分别在Al2O3陶瓷衬底上制备以Cu膜为发射层的单一Cu膜和Mo/Cu复合膜及Mo/Ni/Cu复合膜3种结构阴极薄膜.基于二极管场发射器件结构,研究了各样品的场发射特性.利用场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscopy,FE-SEM)和能谱仪(energy dispersive spectrometry,EDS)对样品表面形貌和成分进行分析.结果表明:Mo/Ni/Cu复合膜的阈值电场为3.3 V·μm-1;最大电流密度为63.0μA·cm-2;比在相同条件下制备的单一Cu膜和Mo/Cu复合膜具有更好的场发射特性,表明金属复合膜结构有效的改善了单一Cu膜的场发射性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王小平	上海理工大学理学院	34	376	7.0	19.0
2	王丽军	上海理工大学理学院	34	376	7.0	19.0
3	郭媚媚	上海理工大学理学院	2	0	0.0	0.0