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摘要:
采用直流(DC)反应磁控溅射法在玻璃上制备了不同Si/Ti原子比的TiO2-SiO2复合薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计、CA-XP150型接触角仪、UMT-2型多功能微摩擦仪,研究了不同Si/Ti原子比的TiO2-SiO2复合薄膜微观结构、表面形貌、亲水性能和摩擦磨损性能.结果表明,所制备的纯TiO2薄膜具有锐钛矿结构,其平均晶粒尺寸为11 nm,TiO2-SiO2复合薄膜呈现非晶结构,其粒子尺寸相对减小;随着Si/Ti原子比的增大,薄膜在可见光区的平均透过率从76.6% 增加到84.3%.当复合薄膜中Si/Ti原子比为1:2时,薄膜的摩擦系数为0.11,薄膜具有最佳的亲水性能;在紫外光照射2 h后水接触角降到3.0°;在黑暗中放置30 h后水接触角略增加到7.7°.
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文献信息
篇名 Si/Ti原子比对TiO2-SiO2复合薄膜亲水性能与摩擦磨损性能的影响
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 TiO2-SiO2复合薄膜 Si/Ti比 亲水性能 摩擦性能 直流磁控溅射
年,卷(期) 2019,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 579-586
页数 8页 分类号 O484
字数 4948字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2019.04.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵青南 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室 45 423 12.0 19.0
5 董玉红 14 18 2.0 4.0
6 王晓宏 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室 3 0 0.0 0.0
7 常潇 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室 3 0 0.0 0.0
8 陆文涛 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室 3 0 0.0 0.0
9 赵杰 7 11 1.0 3.0
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Si/Ti比
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直流磁控溅射
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
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