大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究

• 作者: 于涌 刘剑 成贤锴 蔡黎明 顾国刚
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 工学
• 关键词: 高精度 陶瓷导轨 超精研抛
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 原创文章
• 页码范围: 663-669
• 页数: 7页
• 分类号: TH163|TH162+1
• 字数: 2697字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20191203.0663

摘要

为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系.首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型.然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果.最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min.在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘剑		66	379	12.0	17.0
3	蔡黎明	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所	8	25	3.0	5.0
4	成贤锴	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所	15	58	4.0	7.0
5	于涌	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所	40	120	5.0	9.0
6	顾国刚	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所	7	28	2.0	5.0