反应物浓度诱导CVD SiC结构的转变

• 作者: 何雨恬 刘桦 张明瑜 林松盛 王昊 王秀连 邓畅光 黄东
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: CVD SiC 微观结构
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 90-95
• 页数: 6页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2019.02.002

摘要

利用低密度的C/C复合材料为沉积基体,通过化学气相沉积法制备气相生长SiC,分析并研究了不同沉积位置和反应物浓度下气相生长SiC的微观形貌和物相组成.结果表明,随着反应物气体浓度的降低,多孔C/C复合材料基体上气相生长的SiC的微观结构呈区域性变化,SiC薄膜依次向SiC薄膜和颗粒、SiC短棒、SiC纳米线转变.探讨了不同反应物浓度气氛中过饱和度诱导原子迁移和气相分子吸附的过程,并提出一个SiC的生长模型.