液浮法抛光优化技术

• 作者: 弥谦 李宏 秦琳 郭忠达
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学元件加工 液浮抛光法 剪切增稠液体 正交实验 极值法
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 光学加工
• 页码范围: 251-256
• 页数: 6页
• 分类号: TN205|TH706
• 语种: 中文

摘要

一种新的光学元件表面抛光工艺液浮抛光技术,采用具有剪切增稠效应的非牛顿流体作为抛光液,流体在抛光区域形成液膜,实现对工件表面高效、低损伤的加工.以材料去除量以及工件表面粗糙度作为评价指标,利用正交实验法对K9玻璃抛光过程中的四个关键影响因素:磨粒质量分数、磨头入口压强、磨头重力、剪切增稠相中分散相的质量分数进行实验分析,得到一组最优参数组合以及各主要影响因素对抛光效果的影响程度.对于工件表面粗糙度,采用极差法得出各因素对整个工件的影响程度的主次顺序为(主→次):二氧化硅质量分数、磨头重力、入口压强、磨粒质量分数,最佳参数组合为:磨粒氧化铈质量分数为14％,入口压强为0.3MPa,剪切增稠相中分散相二氧化硅质量分数为9％,磨头重力为34.3kg;对于材料去除量分布,经过90min的抛光,其平均去除量为0.2μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心	60	260	9.0	14.0
2	郭忠达	西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心	21	87	5.0	8.0
3	秦琳	西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心	2	2	1.0	1.0
4	李宏	西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心	5	2	1.0	1.0