直接沉淀法制备α-ZrP及其光催化降解性能

• 作者: 张彩云 纪柏林 胡晓霞 邢彦军
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 印染废水 直接沉淀法 层状材料 染料 光催化降解
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 生产技术
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: TS199
• 语种: 中文

摘要

以氧氯化锆、氟化铵和磷酸为原料,采用改进直接沉淀法制备了层状材料α-ZrP,并对产物进行表征.X射线衍射和傅里叶变换红外光谱测试表明,所合成的产物为α-ZrP,其层间距为0.766 nm;紫外可见光谱测试表明,α-ZrP的禁带宽度为3.94 eV(λg=315 nm),说明α-ZrP为紫外光响应型光催化剂.以染料罗丹明B(RhB)为目标污染物,研究了所制备的α-ZrP在黑暗条件下的吸附作用和在光照下的光催化活性.结果表明,α-ZrP在黑暗条件下对RhB的吸附高达46.69％,光照5h后RhB的总脱色率达到95.85％.