高效选择性PVDF中空纤维膜设计及除铯研究

• 作者: 丁士元 侯立安 张利兰 李阳
• 来源期刊: 工程（英文）
• 关键词: 铯去除 膜改性 亚铁氰化铜 聚偏氟乙烯
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 页码范围: 865-871,中插57-中插63
• 页数: 8页
• 字数: 3240字
• 语种: 英文

摘要

本研究通过一种简单有效的接枝方法成功制备了亚铁氰化铜/二氧化硅/聚偏氟乙烯(CuFC/SiO2/PVDF)中空纤维膜.PVDF中空纤维膜通过SiO2中间层将CuFC纳米颗粒固定以去除Cs.分别通过扫描电子显微镜和X射线能谱仪分析了改性膜表面形貌和化学组成.3层CuFC和0.5％SiO2负载制备的CuFC/SiO2/PVDF膜具有非常高的膜渗透通量(49 L·m–2·h–1·bar–1)和Cs截留率(99.82％),且pH(4～10)的变化对Cs的去除率影响较小.改性膜可以通过NH4NO3进行多次有效再生.在1 mmol·L–1的共存竞争离子(K+和Na+)影响下,改性膜仍保持较高的除Cs效率(8 h分别为76.25％和88.67％),展现出对Cs的选择去除性.特别地,CuFC/SiO2/PVDF膜在处理含低浓度Cs(100μg·L–1)的天然地表水和模拟水体时表现出非常优异的去除率(>90％).因此,CuFC/SiO2/PVDF膜具有处理受Cs污染的放射性废水的工程应用潜力.