响应曲面法-LSSE模型联合优化光催化降解亚甲基蓝

• 作者: 戴竞 解清杰 阿琼 陈再东
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 化学
• 关键词: 光催化 亚甲基蓝 LSSE模型 响应曲面法
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: O644
• 字数: 2636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0439.2019.09.007

摘要

应用响应曲面法与LSSE模型确定了光催化降解亚甲基蓝的最佳工艺参数.先通过LSSE方法进行光距模拟,当紫外功率为60 W时,最佳光距为3 cm;通过响应曲面法模拟光催化降解实验,得到最佳工艺参数为pH=11、水膜厚度5 mm、光距3 cm、光照3 h,降解效果最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	解清杰	江苏大学环境与安全工程学院	79	238	7.0	11.0
2	阿琼		19	35	4.0	4.0
3	陈再东	江苏大学环境与安全工程学院	3	1	1.0	1.0
4	戴竞	江苏大学环境与安全工程学院	7	10	2.0	3.0