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千瓦级硅LDMOS微波功率晶体管关键技术研究
千瓦级硅LDMOS微波功率晶体管关键技术研究
作者:
丁晓明
应贤炜
杨建
梅海
王佃利
黄乐旭
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅横向扩散金属氧化物半导体
千瓦级
微波功率晶体管
摘要:
针对雷达、通信、遥控遥测等领域对硅横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)微波大功率管的迫切需求,开展了硅LDMOS微波功率晶体管的亚微米精细栅制作、低阻低应力钴硅合金、大尺寸芯片烧结及金属陶瓷全密封管壳平整度控制等关键技术研究,并取得了突破,研制出2 000 W硅LDMOS微波功率晶体管,漏源击穿耐压大于140 V,结到管壳热阻0.19℃/W.在50 V工作电压、230 MHz工作频率、脉宽为100 μs、占空比为20%、输入功率为6W的测试条件下,实现输出功率达到1 330W,增益23.5 dB,漏极效率74.4%,电压驻波比10∶1.该晶体管已实现工程应用.
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文献信息
篇名
千瓦级硅LDMOS微波功率晶体管关键技术研究
来源期刊
现代雷达
学科
工学
关键词
硅横向扩散金属氧化物半导体
千瓦级
微波功率晶体管
年,卷(期)
2019,(9)
所属期刊栏目
工艺技术
研究方向
页码范围
76-82
页数
7页
分类号
TB385|TN386.1
字数
4418字
语种
中文
DOI
10.16592/j.cnki.1004-7859.2019.09.017
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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王佃利
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丁晓明
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节点文献
硅横向扩散金属氧化物半导体
千瓦级
微波功率晶体管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代雷达
主办单位:
南京电子技术研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-7859
CN:
32-1353/TN
开本:
大16开
出版地:
南京3918信箱110分箱
邮发代号:
28-288
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
5197
总下载数(次)
19
总被引数(次)
32760
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