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摘要:
采用电子束热蒸发技术,用不同沉积速率制备了TiO2薄膜.根据透射率谱计算了薄膜的光学带隙,采用椭偏法测量了薄膜的折射率、消光系数及厚度,分析了薄膜内部的电场强度分布,对其激光损伤特性进行了研究.结果表明,在所研究的工艺参数范围内,TiO2薄膜的光学带隙比较稳定,随沉积速率的变化并不显著,其值大小在3.95eV-3.97eV.当沉积速率从0.088nm/s,0.128nm/s增加到0.18nm/s时,薄膜折射率从1.9782,1.9928,升高到2.0021(波长1064nm),但当沉积速率继续增加到0.327nm/s时,折射率反而降低到1.9663,薄膜的消光系数随着沉积速率的增加单调增加.采用同一高能激光损伤薄膜后,当沉积速率较低时制备薄膜的损伤斑大小基本一致,但以0.327nm/s较高速率制备的薄膜,其损伤斑明显增大.高沉积速率下制备的TiO2薄膜的吸收较大,激光损伤阈值较低.
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文献信息
篇名 热蒸发沉积TiO2薄膜的光学及激光损伤特性
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 薄膜 TiO2 光学带隙 折射率 激光损伤阈值 电场强度
年,卷(期) 2019,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 39-44
页数 6页 分类号 O484.4|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.01.08
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐均琪 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 87 611 13.0 20.0
2 苏俊宏 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 111 496 12.0 16.0
3 王建 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 11 27 2.0 5.0
4 李候俊 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 6 8 2.0 2.0
5 李绵 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 7 6 1.0 2.0
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真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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