基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究

• 作者: 付秀华 冯时 张旭 李晓静 王大森 聂凤明
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 离子束溅射沉积 膜厚均匀性 大口径光学元件 驻留时间
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 199-204
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3366字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20194801.0131002

摘要

针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻留时间分布规律,根据所得的数据进行逐级修正.实验结果表明,当驻留时间比优化为-26.6％时,可以实现在直径300～600mm大口径的光学元件上均匀镀膜,以熔石英表面上镀硅膜为例,溅射沉积6h,表面膜厚为212.4±0.3nm,薄膜均匀性达到0.4％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付秀华	长春理工大学光电工程学院	141	525	11.0	15.0
2	聂凤明		6	43	2.0	6.0
3	冯时	长春理工大学光电工程学院	2	0	0.0	0.0
5	张旭		9	30	2.0	5.0
9	王大森		7	5	2.0	2.0
10	李晓静		9	25	3.0	4.0