二次烘烤对过期Mask Blank原材白缺陷影响的研究

• 作者: 司继伟 黄国勇
• 来源期刊: 电子测试
• 关键词: 过期 MaskBlank原材 二次烘烤 白缺陷
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 理论与算法
• 页码范围: 51-52
• 页数: 2页
• 字数: 1545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-8519.2019.04.019

摘要

本文通过对过期Mask Blank原材进行二次烘烤,发现此举对改善因blank原材过期所导致的白缺陷效果明显,不仅缺陷数量得到大幅的减少,同时缺陷尺寸大小也有明显的减小;进而通过多次实验,对比验证了曝光前二次烘烤、曝光后二次烘烤、显影后二次烘烤对改善白缺陷效果的差异,以及有无其它负面影响、负面影响可消除难易程度.通过实验发现,曝光后的烘烤,效果最佳,不仅白缺陷数量和尺寸都大幅减少,而且负面影响小,且所带来的负面影响可以有效去除,该方案具有运用到实际的工作中的价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	司继伟		1	0	0.0	0.0
2	黄国勇		1	0	0.0	0.0