噻咯及其衍生物的合成及性能研究进展

• 作者: 吕素芳 张大伟 张飞豹 王从焕 蒋剑雄
• 来源期刊: 有机硅材料
• 学科: 工学
• 关键词: 噻咯 有机光电材料 光物理性质 杂环化合物
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 技术进展
• 页码范围: 310-316
• 页数: 7页
• 分类号: TQ264.1
• 字数: 3921字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11941/j.issn.1009-4369.2019.04.012

摘要

综述了噻咯、二噻吩并噻咯和含噻咯单元聚合物的合成方法、性能及应用研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋剑雄	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	64	481	12.0	18.0
2	吕素芳	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	10	37	4.0	6.0
3	张飞豹	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	6	12	1.0	3.0
4	张大伟	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	3	1	1.0	1.0
5	王从焕	杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0