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不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜的结构和光学性质研究
不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜的结构和光学性质研究
作者:
张曰理
蒋志洁
阳生红
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Zn0.97Co0.03O薄膜
磁控溅射
溅射功率
结构
可见光透过率
光致发光
摘要:
采用磁控溅射法在不同射频功率下制备了Zn0.97 Co0.03 O薄膜.利用X射线衍射(XRD)、 拉曼光谱(Raman)、 紫外-可见光谱和室温光致发光谱对薄膜进行了表征.XRD和Raman结果表明,Zn0.97 Co0.03 O薄膜为六方纤锌矿结构,沿(002)晶面择优取向.随着溅射功率的增大,薄膜的(002)晶面择优取向增强,晶化程度提高,晶粒尺寸增大.不同溅射功率制备的Zn0.97 Co0.03 O薄膜均具有较高的可见光透过率.随溅射功率增加,光学带隙减小,光吸收边红移.光致发光谱表明不同溅射功率制备的Zn0.97 Co0.03 O薄膜均具有较强的带边紫外发光峰.随着溅射功率的增加,该发光峰的峰位发生红移,且峰强度增强.以上研究结果表明,溅射功率对Zn0.97 Co0.03 O薄膜的生长速率、 结晶质量及光学性能有明显影响,但不会影响薄膜的成分.
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文献信息
篇名
不同溅射功率制备的Zn0.97Co0.03O薄膜的结构和光学性质研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
Zn0.97Co0.03O薄膜
磁控溅射
溅射功率
结构
可见光透过率
光致发光
年,卷(期)
2019,(1)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
23-27
页数
5页
分类号
O484.4|TN304
字数
3688字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.01.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张曰理
中山大学材料科学与工程学院
27
80
4.0
8.0
2
阳生红
中山大学物理学院
19
101
5.0
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3
蒋志洁
中山大学物理学院
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1997(1)
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节点文献
Zn0.97Co0.03O薄膜
磁控溅射
溅射功率
结构
可见光透过率
光致发光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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