溅射沉积WSx/Ni/a-C/Ni多层膜的微结构及大气环境摩擦学性能

• 作者: 刘涛 杨芳儿 王贡启 郑晓华 龚润泽
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二硫化钨 Ni 非晶态碳(a-C) 多层膜 摩擦学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 82-89
• 页数: 8页
• 分类号: TH117.1|TH117.2
• 字数: 5465字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16078/j.tribology.2018118

摘要

采用磁控溅射技术在硅基体上交替沉积WS2、Ni及非晶碳(a-C)层制备出不同Ni层厚度的WSx/Ni/a-C/Ni多层膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪等研究了多层膜的成分及微观结构;通过纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机等评价了薄膜的力学及大气环境中的摩擦学性能.结果表明:随着Ni层厚度的增加,WSx/Ni/a-C/Ni多层膜的致密度下降,ns/nw值(S与W原子百分数之比)由0.84降至0.73,WSx层以微晶或非晶的形式存在.多层膜的硬度和磨损率均随Ni层厚度的增加先降低后升高,但摩擦系数由0.22升至0.38,结合力先增大后减小.Ni层厚度为6nm的多层膜的硬度可达13.4 GPa,抗氧化性能和耐磨性最优,磨损率仅为9.47× 10-14m3/(Nm).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓华	浙江工业大学材料科学与工程学院	35	161	7.0	10.0
2	杨芳儿	浙江工业大学材料科学与工程学院	32	87	6.0	7.0
3	王贡启	浙江工业大学材料科学与工程学院	4	0	0.0	0.0
4	刘涛	浙江工业大学材料科学与工程学院	6	6	1.0	2.0
5	龚润泽	浙江工业大学材料科学与工程学院	3	6	1.0	2.0