三重图样光刻与定向自组装技术下通孔层的分解

• 作者: 吴莉莉 朱文兴 李兴权
• 来源期刊: 福州大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模版 引导槽 分配 定向自组装 三重图样光刻 冲突 成本
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 页码范围: 441-446
• 页数: 6页
• 分类号: TP202.1
• 字数: 4863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7631/issn.1000-2243.18527

摘要

针对三重图样光刻和定向自组装技术下通孔层的掩模版和引导槽分配问题,首先为给定版图构造一个加权冲突分组图;然后,基于加权冲突分组图提出一个整数线性规划模型.同时,为了加快整数规划的求解速度,引入一些有效的不等式将一些不好的结果剪枝掉.对比当前相关工作,基于整数规划的方法可以减少42倍的冲突数目和78％的总成本.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱文兴	福州大学离散数学研究中心	44	465	10.0	21.0
2	李兴权	闽南师范大学数学与统计学院	2	0	0.0	0.0
3	吴莉莉	闽南师范大学数学与统计学院	2	0	0.0	0.0