对胶体球光刻中单层胶体晶体曝光特性的研究

• 作者: 刘海萍 杨瑞霞 滕世豹 田树盛 陈春梅 马文静
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 胶体球光刻 单层胶体晶体(MCC) 曝光特性 刻蚀 图形化蓝宝石衬底(PSS)
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 半导体制造技术
• 页码范围: 38-42
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2019.01.007

摘要

对胶体球光刻中单层胶体晶体(MCC)的曝光特性进行了研究.利用磁控溅射的方法在蓝宝石衬底上生长SiO2薄膜并旋涂光刻胶,通过固液界面自组装的方法在光刻胶上制备了单层胶体晶体.胶体球光刻利用单层胶体晶体作为微透镜阵列,通过紫外曝光的方法在光刻胶上制备微孔阵列.光刻胶上图形的周期性与胶体球的直径有关,并且大直径的胶体球的聚光性能要强于小直径胶体球,在曝光过程中随着曝光时间的增加,由于曝光量的增加以及光刻胶的漂白现象,光刻胶上微孔的尺寸也在增加.最后以曝光后的光刻胶为掩膜,将感应耦合等离子体刻蚀技术(ICP)以及湿法腐蚀相结合,制备出了图形化蓝宝石(PSS)衬底.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑞霞	河北工业大学电子信息工程学院	180	759	13.0	18.0
2	马文静	河北工业大学电子信息工程学院	15	3	1.0	1.0
3	陈春梅	河北工业大学电子信息工程学院	4	0	0.0	0.0
4	田树盛	河北工业大学电子信息工程学院	3	0	0.0	0.0
5	滕世豹	河北工业大学电子信息工程学院	2	0	0.0	0.0
6	刘海萍	河北工业大学电子信息工程学院	2	0	0.0	0.0