透明导电银膜光电性能及研究概况

• 作者: 吕德涛 孙继伟 李克训 许晓丽
• 来源期刊: 材料科学
• 学科: 工学
• 关键词: 网栅银膜 纳米银线薄膜 纳米压印 电磁屏蔽 透明
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 页码范围: 708-716
• 页数: 9页
• 分类号: TB3

摘要

伴随着智能电子商品的迅猛发展,寻求一种新的成本低廉的透明导电薄膜来替代ITO薄膜已成为人们的研究热点。网栅银膜和纳米银线薄膜(AgNWs)由于高载流子浓度、高变形伸长率和耐氧化的特点,在微电子、触控等许多领域有广阔的应用前景,成为近年来广泛研究的多功能材料之一。本文介绍了两种透明导电银膜的薄膜结构、制备工艺、光电性能及发展现状,说明了网栅银膜的图形结构设计及不同网栅结构的特点及应用场景,测试对比了两种透明导电银膜的透光率、方阻、电磁屏蔽效能。结果显示纳米压印工艺制备的网栅银膜光电性能最优异,同时该技术自主可控。