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打破光学成像的衍射和多散射极限
打破光学成像的衍射和多散射极限
作者:
拉斐尔·匹斯通
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
超分辨成像
强散射介质
光学计算成像
衍射
多散射
摘要:
光学计算成像旨在通过照明、光路、探测器以及重建算法等的共同努力来提高光学系统的成像性能,实现新的功能.讨论了两个值得关注的计算成像例子:超越衍射极限的光学成像和复杂媒介成像.第一个例子也被称为超分辨成像,研究者们打破了保持了130多年的阿贝衍射极限,为纳米尺度的光学成像带来了前所未有的机会:将基于光激活和光转换蛋白的荧光成像技术和计算光学成像系统相结合,可以提供宽场单分子检测能力;将三维点扩散函数工程和最优重建算法结合,进一步提高了系统的三维分辨能力.第二个例子是关于透过强散射介质的聚焦和成像,是近年光学领域的研究热点.通过使用反馈系统和光学调制来实现波前控制,可以克服介质传播中的多散射效应.特别值得指出的是,将相位控制全息技术跟微机电技术相结合,可以实现散射介质状态的高速评估,从而能够在动态强散射介质样品上实现聚焦.
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内容分析
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文献信息
篇名
打破光学成像的衍射和多散射极限
来源期刊
光学与光电技术
学科
工学
关键词
超分辨成像
强散射介质
光学计算成像
衍射
多散射
年,卷(期)
2019,(5)
所属期刊栏目
武汉光电论坛
研究方向
页码范围
1-5
页数
5页
分类号
TN731
字数
语种
中文
DOI
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2019(0)
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研究主题发展历程
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超分辨成像
强散射介质
光学计算成像
衍射
多散射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
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