含卤素酸性溶液中唑类缓蚀剂缓蚀机理的分子模拟

• 作者: 张向东 成文峰 曹俊秀 熊友强 胡松青 薄煜
• 来源期刊: 腐蚀与防护
• 学科: 工学
• 关键词: 唑类缓蚀剂 卤素离子 缓蚀机理 分子模拟
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 667-670,673
• 页数: 5页
• 分类号: TG174
• 字数: 3530字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11973/fsyfh-201909008

摘要

采用分子模拟方法,研究了含有卤素离子的硫酸溶液中2-巯基苯并噁唑(MBO)、2-巯基苯并咪唑(MBI)和2-巯基苯并噻唑(MBT)三种头基唑类缓蚀剂在Fe表面的吸附成膜机理,从平衡吸附构型 、缓蚀剂膜内水分子分布和迁移运动规律 、缓蚀剂与金属表面相互作用能等方面系统探索了不同唑类缓蚀剂的缓蚀机理.结果表明:三种缓蚀剂的成膜性能由大到小顺序为MBT>MBI>MBO,质子化的缓蚀剂头基与带负电的金属表面卤素离子之间的静电相互作用是导致不同唑类缓蚀剂成膜性能差异的关键,卤素离子与质子化缓蚀剂分子存在协同作用,能够大大增强缓蚀剂在酸性溶液中的缓蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊友强		3	0	0.0	0.0
2	成文峰		3	1	1.0	1.0
3	张向东		1	0	0.0	0.0
4	曹俊秀		1	0	0.0	0.0