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摘要:
能够直观地"看到"半导体材料中制作的p-n结,对于半导体器件的设计和制造工艺很有意义,知道p-n结的厚度及其在样品中的位置,有利于设计器件的结构、保护膜的厚度、电极的尺寸等,也可以优化离子注入、表面处理、电路互联等工艺参数.本文用EBIC(电子束诱生电流)法观察了InSb半导体器件中的p-n结.同时观察到了器件中的肖特基结,其中肖特基结显示出明显的温度特性:温度降低,肖特基结响应区域扩大,温度降至80 K,Cr-InSb肖特基结响应区域可扩展至47μm.用离子注入法在InSb材料中制成的p-n结其空间电荷区并不呈对称的空间分布,靠n区一侧的空间电荷区较薄,电荷密度较大,靠p区一侧的空间电荷区较厚,电荷密度相对较小.作为一种常用的观察分析工具,EBIC法在观察分析半导体器件结构方面有透视和显微等优点.
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文献信息
篇名 用EBIC法观察InSb半导体器件中的p-n结
来源期刊 红外技术 学科 工学
关键词 电子束诱生电流 肖特基结 p-n结 InSb半导体器件
年,卷(期) 2019,(8) 所属期刊栏目 材料与器件
研究方向 页码范围 742-749
页数 8页 分类号 TN219
字数 3818字 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
电子束诱生电流
肖特基结
p-n结
InSb半导体器件
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
月刊
1001-8891
53-1053/TN
大16开
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
64-26
1979
chi
出版文献量(篇)
3361
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13
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30858
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