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摘要:
基于半绝缘InP衬底的辐射探测器在X射线成像领域有着广阔的应用前景.半绝缘InP衬底中Fe的掺杂量对InP基辐射探测器的性能有一定的影响.通过液封直拉(LEC)法和垂直梯度凝固(VGF)法生长了掺Fe半绝缘InP单晶,并对普通Fe掺杂(0.3 g/kg)和低Fe掺杂的InP单晶的电参数特性、光学特性及辐射特性等方面进行了研究.测试数据表明VGF生长的InP单晶的位错密度小于500 cm-2,缺陷非常少.但VGF必须使用多晶InP作为原料,Fe的掺杂量不能低于0.3 g/kg,造成晶体中的杂质含量较高.低Fe掺杂LEC生长的InP单晶的掺杂量只有普通掺杂的一半,经过退火,低Fe掺杂LEC生长的InP的电阻率达到4.9×107 Ω·cm,迁移率达到4 410 cm2·V-1·s-1,位错密度小于1×104 cm-2,显示出了较好的半绝缘特性且晶体质量良好.使用低Fe掺杂半绝缘InP制成的辐射探测器显示出了良好的性能.
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文献信息
篇名 用于辐射探测器的低Fe掺杂半绝缘InP材料
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 磷化铟(InP) 晶体生长 Fe掺杂 半绝缘 辐射探测器
年,卷(期) 2019,(12) 所属期刊栏目 半导体材料
研究方向 页码范围 956-960
页数 5页 分类号 TN304.23
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2019.012.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 付莉杰 中国电子科技集团公司第十三研究所 2 0 0.0 0.0
2 陈春梅 河北工业大学电子信息工程学院 4 0 0.0 0.0
3 王阳 中国电子科技集团公司第十三研究所 8 5 2.0 2.0
4 邵会民 中国电子科技集团公司第十三研究所 2 12 1.0 2.0
5 王丽 1 0 0.0 0.0
6 田树盛 河北工业大学电子信息工程学院 3 0 0.0 0.0
7 黄子鹏 河北工业大学电子信息工程学院 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
磷化铟(InP)
晶体生长
Fe掺杂
半绝缘
辐射探测器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
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