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用于辐射探测器的低Fe掺杂半绝缘InP材料
用于辐射探测器的低Fe掺杂半绝缘InP材料
作者:
付莉杰
王丽
王阳
田树盛
邵会民
陈春梅
黄子鹏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磷化铟(InP)
晶体生长
Fe掺杂
半绝缘
辐射探测器
摘要:
基于半绝缘InP衬底的辐射探测器在X射线成像领域有着广阔的应用前景.半绝缘InP衬底中Fe的掺杂量对InP基辐射探测器的性能有一定的影响.通过液封直拉(LEC)法和垂直梯度凝固(VGF)法生长了掺Fe半绝缘InP单晶,并对普通Fe掺杂(0.3 g/kg)和低Fe掺杂的InP单晶的电参数特性、光学特性及辐射特性等方面进行了研究.测试数据表明VGF生长的InP单晶的位错密度小于500 cm-2,缺陷非常少.但VGF必须使用多晶InP作为原料,Fe的掺杂量不能低于0.3 g/kg,造成晶体中的杂质含量较高.低Fe掺杂LEC生长的InP单晶的掺杂量只有普通掺杂的一半,经过退火,低Fe掺杂LEC生长的InP的电阻率达到4.9×107 Ω·cm,迁移率达到4 410 cm2·V-1·s-1,位错密度小于1×104 cm-2,显示出了较好的半绝缘特性且晶体质量良好.使用低Fe掺杂半绝缘InP制成的辐射探测器显示出了良好的性能.
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文献信息
篇名
用于辐射探测器的低Fe掺杂半绝缘InP材料
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
磷化铟(InP)
晶体生长
Fe掺杂
半绝缘
辐射探测器
年,卷(期)
2019,(12)
所属期刊栏目
半导体材料
研究方向
页码范围
956-960
页数
5页
分类号
TN304.23
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2019.012.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
付莉杰
中国电子科技集团公司第十三研究所
2
0
0.0
0.0
2
陈春梅
河北工业大学电子信息工程学院
4
0
0.0
0.0
3
王阳
中国电子科技集团公司第十三研究所
8
5
2.0
2.0
4
邵会民
中国电子科技集团公司第十三研究所
2
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1.0
2.0
5
王丽
1
0
0.0
0.0
6
田树盛
河北工业大学电子信息工程学院
3
0
0.0
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黄子鹏
河北工业大学电子信息工程学院
1
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磷化铟(InP)
晶体生长
Fe掺杂
半绝缘
辐射探测器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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