双源共蒸技术制备MgF2/ZnS复合薄膜的特性

• 作者: 师云云 徐均琪 李候俊 苏俊宏
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 复合薄膜 折射率 消光系数 激光损伤阈值 热蒸发 双源共蒸
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 表面强化及功能化
• 页码范围: 82-88
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.4|O484
• 字数: 4029字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.02.012

摘要

目的 以MgF2和ZnS为单组分制备MgF2/ZnS复合薄膜,研究复合薄膜的光学性能,以获取任意折射率薄膜材料,并优化高损伤阈值激光薄膜的制备工艺.方法 基于光电极值膜厚监控原理,采用电子束热蒸发和电阻热蒸发技术制备了复合薄膜,测量了复合薄膜的折射率、消光系数和透射率光谱,并对其激光损伤特性进行了研究.结果 在所研究的工艺参数范围内,当MgF2和ZnS的沉积速率比为5:1、4:1、2:1、1:1和0.5:1时,所制备复合薄膜的折射率分别为1.4227、1.4932、1.6318、1.9044和2.0762(波长550 nm).复合薄膜的折射率符合正常色散,当沉积速率选取合适,可以获得介于两种组分薄膜材料之间的任意折射率.对激光损伤性能测试的结果显示,不同沉积速率比率下制备的复合薄膜的激光损伤阈值可能介于两种单组分薄膜之间,也可能高于每种单组分薄膜的激光损伤阈值,其激光损伤阈值最高比单组分MgF2薄膜高28.6％,比单组分ZnS薄膜高96.4％.结论 采用光电极值法监控膜厚,可根据不同蒸发源的蒸发特性,获得介于单组分膜料折射率之间的任意折射率材料,双源共蒸技术获取中间折射率是可行的.采用双源共蒸技术制备的复合薄膜,可改善单组分膜层的缺陷,获得高于单组分薄膜激光损伤阈值的材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	87	611	13.0	20.0
2	苏俊宏	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	111	496	12.0	16.0
3	李候俊	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	6	8	2.0	2.0
4	师云云	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	4	2	1.0	1.0