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中子散射在磁性材料研究中的应用
中子散射在磁性材料研究中的应用
作者:
朱涛
郭尔佳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁性材料
中子散射
极化中子反射
薄膜与异质结
摘要:
中子具有天然磁矩,穿透能力强且对轻元素敏感等独特的优势,是目前研究材料中磁结构最有力的工具.发展中子散射技术对开发新型磁性材料和研究磁性物理机理等方面具有重大意义.文章介绍了几种常用的中子散射技术(如粉末衍射、小角散射、反射等),并通过典型的实例来说明它们在磁性材料研究中的具体应用.针对国内介绍中子反射技术的资料相对较少,尤其是极化中子反射技术在精确定量表征薄膜磁性大小和分布方面的研究极度匮乏的现状,文章重点介绍了这一特色技术以及应用实例.
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文献信息
篇名
中子散射在磁性材料研究中的应用
来源期刊
物理
学科
关键词
磁性材料
中子散射
极化中子反射
薄膜与异质结
年,卷(期)
2019,(11)
所属期刊栏目
中子源多学科应用专题
研究方向
页码范围
708-714
页数
7页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7693/wl20191102
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱涛
中国科学院物理研究所北京凝聚态物理研究中心
27
132
6.0
10.0
2
郭尔佳
中国科学院物理研究所北京凝聚态物理研究中心
1
0
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传播情况
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2012(1)
参考文献(1)
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2019(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磁性材料
中子散射
极化中子反射
薄膜与异质结
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
0379-4148
CN:
11-1957/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-805
创刊时间:
1951
语种:
chi
出版文献量(篇)
4702
总下载数(次)
20
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