微织构表面电射流沉积MoS2/Ti涂层及其摩擦磨损特性研究

• 作者: 孙婕 张亮亮 李学木 邓建新
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: MoS2/Ti涂层 电射流沉积 表面织构 摩擦磨损
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 42-47
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4|TH161
• 字数: 3999字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2019.03.009

摘要

利用激光加工技术在YG6硬质合金基体上制备椭圆阵列微织构.配制了MoS2/Ti悬浮液,利用电射流沉积技术在YG6硬质合金基体上沉积了厚度为17μm的MoS2/Ti涂层,研究了电射流沉积流量和沉积高度对涂层形貌的影响.当沉积流量为12μL/min、沉积高度为5mm时,获得了均匀紧凑的MoS2/Ti涂层.对MoS2/Ti涂层沉积前后织构化基体摩擦磨损特性进行研究,结果表明:表面织构可以降低摩擦系数及其波动程度,有效储存涂层材料;MoS2/Ti涂层降低基体表面的摩擦系数效果更为明显,能够减缓基体的磨损程度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓建新		164	2357	25.0	39.0
2	张亮亮		7	35	3.0	5.0
3	李学木		6	5	1.0	2.0
4	孙婕		3	4	1.0	2.0