受阻胺光稳定剂770的合成与应用研究

• 作者: 刘勤 刘振峰 李坤泉 李岩 李积德 柴生勇 汪廷洪 陈林
• 来源期刊: 合成材料老化与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 受阻胺 770 光稳定剂 耐候 ABS
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 1-5,58
• 页数: 6页
• 分类号: TQ253
• 字数: 4565字
• 语种: 中文

摘要

采用不同的原料和工艺方法合成了受阻胺光稳定剂770 ZZ,研究了催化剂种类、溶剂种类以及原料配比等对转化率的影响,并采用傅里叶红外光谱(FTIR)、热重分析仪(TGA)、差示扫描量热仪(DSC)和核磁氢谱(1 H-NMR)对产物进行了表征,最后将其应用于制备耐候ABS.确定了光稳定剂770 ZZ的合成工艺条件,FTIR和1 H-NMR表明获得了目标产物.TGA和DSC分析显示,通过后处理工艺可以有效去除产品中的催化剂等杂质,提高产品的纯度,能有效提高ABS的抗紫外性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李岩		10	10	2.0	2.0
2	刘勤		12	30	3.0	5.0
3	李坤泉		10	8	2.0	2.0
4	柴生勇		12	11	2.0	2.0
5	李积德		12	7	2.0	2.0
6	陈林		10	5	1.0	1.0
7	刘振峰		3	0	0.0	0.0
8	汪廷洪		5	3	1.0	1.0