Al0.7Sb2Te3合金靶的制备及性能研究

• 作者: 周增林 夏扬 孙川希 谢元锋
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: Al0.7Sb2Te3 合金靶 两相组成 近全致密
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 727-732
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY17100021

摘要

Al-Sb-Te相变薄膜与CMOS兼容性高,热稳定性佳,所以能很好满足相变存储器高温稳定工作的需求.以原子比Al∶Sb∶Te=0.7∶2.0∶3.0的混合粉为原料,采用真空合成法与烧结-热等静压制备Al-Sb-Te合成粉及用于溅射沉积Al0.7 Sb2Te3薄膜的三元靶材,通过X射线衍射仪(XRD),场发射扫描电镜(FESEM)及金相显微镜(OM)、能谱仪(EDS)分别表征粉体物相、靶材显微组织及元素分布等.结果 表明:Al0.7Sb2Te3合成粉的主相为Sb2Te3相,且与Sb2Te3二元合金粉相比,Al原子的掺杂使Sb2Te3主相的品格常数与晶胞体积均减小,具体表现为:品格常数a,c从Sb2Te3二元合金粉的0.4267,3.0443 nm减小到Al0.7Sb2Te3合成粉的0.4258,3.0423 nm,且晶胞体积减小0.486％;再用Al0.7 Sb2Te3合成粉为原料,制备出的三元靶材相对密度达到99.5％,且其平面与截面显微组织基本一致,均形成明显的Al0.1Sb2Te3基体相与单质Al弥散相两相组成,基体相与弥散相结合紧密,界面处存在宽度2～3 μm的过渡区域.所制备的近全致密两相Al0.7Sb2Te3合金靶材,有望改进磁控溅射法制备Al-Sb-Te系列薄膜的工艺和效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏扬		13	192	8.0	13.0
2	周增林		23	242	10.0	15.0
3	谢元锋		12	93	5.0	9.0
4	孙川希		1	0	0.0	0.0