低转速下多弧离子镀制备的Mo-Ti-Al-N超晶格硬质涂层的微结构及背散射谱分析

• 作者: 李松权 梁枫 王泽松 田灿鑫 邹长伟 项燕雄
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 纳米多层膜 Mo-Ti-Al-N超晶格涂层 微结构 调制周期 背散射谱
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 专题——刀具表面硬质涂层技术
• 页码范围: 160-167
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 6324字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.04.023

摘要

目的 研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响.方法 采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复合结构涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、背散射谱(RBS)和纳米硬度计,分别对样品的物相、形貌、组分和硬度进行表征分析.结果 XRD显示不同转速下制备的涂层的物相结构主要为六角密排结构的MoN和面心立方(Ti,Al)N,较高基片转速下涂层的结晶性较好.SEM和TEM图像证实,2 r/min基片转速下的目标涂层具有平均调制周期26 nm的TiAlN/MoN超晶格结构,总厚度为1.15μm,且界面清晰.纳米显微硬度测试表明,低基片转速下,涂层硬度和杨氏模量分别达到(30±2)GPa和(500±30)GPa.结论 不同能量的7Li2+离子卢瑟福背散射谱结合SIMNRA拟合程序,可定量评估该超晶格结构涂层的原子百分比、每个子层的物理厚度及调制周期,这为纳米多层膜的微结构表征提供了一种有效的分析手段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田灿鑫	岭南师范学院物理科学与技术学院	6	4	1.0	2.0
2	邹长伟	岭南师范学院物理科学与技术学院	9	10	2.0	3.0
3	梁枫	岭南师范学院物理科学与技术学院	5	6	1.0	2.0
4	王泽松	岭南师范学院物理科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
5	项燕雄	岭南师范学院物理科学与技术学院	1	1	1.0	1.0
6	李松权	岭南师范学院物理科学与技术学院	4	8	2.0	2.0