氯化物三价铬电镀的电化学形核机理

• 作者: 严川伟 乔永莲 侯磊 刘伟华 刘建国 刘春明 张博 张晓冬 李庆鹏 王进军 董宇 赵焕
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 电结晶 三价铬电镀 形核机制 恒电位阶跃
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-5,17
• 页数: 6页
• 分类号: TQ153.1
• 语种: 中文

摘要

为研究Cr3+在金属电极表面的电结晶行为,在氯化物三价铬电镀溶液中,采用电化学工作站测试了Cr3+沉积的时间电流曲线,并利用扫描电镜(SEM)分析镀层形貌.结果 表明:在镍电极、铜电极和铬电极表面,Cr3+的电沉积均经历了成核过程;铜电极和镍电极表面表现为连续成核转为瞬时成核的机理,铬电极的(I/Im)2-t/tm曲线偏离理论曲线较大,但其表现出较正的形核阶跃电位(-1.1 V);随着阶跃电位的负移,3种电极电沉积的电流极大值逐渐增加,电结晶的扩散速率增加,成核数密度减少,镀层由平整光滑逐渐转变为球状晶胞紧密堆砌,晶胞尺寸逐渐增大;在相同的阶跃电位下,铬电极的沉积电流值更小,成核数密度更大,晶胞尺寸更小.