表面活性剂复配对蓝宝石CMP后清洗效果的影响

• 作者: 周海 梁志强 韦嘉辉 高晗
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石 化学机械抛光(CMP) 清洗 表面活性剂复配 超声波
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 151-156
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2019.02.011

摘要

为了去除蓝宝石化学机械抛光(CMP)后表面残留的抛光液,采用表面活性剂复配清洗法,选用非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚9 (AEO9)和阴离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)按不同质量比复配,并与酸碱清洗法进行了对比.对CMP后的蓝宝石进行超声辅助清洗实验,分析了不同复配比对于蓝宝石晶片清洗后表面接触角、表面形貌以及颗粒去除率的影响.结果 表明:表面活性剂复配清洗法的清洗效果优于传统的酸碱清洗法,最优配比的表面活性荆复配清洗法的颗粒去除率较酸碱清洗法提升了31.17％;当表面活性剂复配清洗法中AEO9与AES复配比为1:1时,清洗后的蓝宝石表面接触角最小,为21.6°,表面形貌最优,颗粒去除率达到99.65％,清洗效果最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周海	盐城工学院机械工程学院	123	393	10.0	14.0
2	梁志强	北京理工大学机械工程学院	27	115	7.0	9.0
3	韦嘉辉	江苏大学机械工程学院	3	2	1.0	1.0
7	高晗	盐城工学院机械工程学院	1	1	1.0	1.0