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电解液中金属离子对高压光箔腐蚀行为影响的研究
电解液中金属离子对高压光箔腐蚀行为影响的研究
作者:
何凤荣
余凯
张霞
肖远龙
陈锦雄
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
铝电解电容器
高压阳极箔
电化学腐蚀
极化曲线
金属离子
比电容
摘要:
采用极化曲线和计时电位曲线考察了盐酸-硫酸电解液中金属离子对高压光箔腐蚀电化学行为影响,利用扫描电子显微镜(SEM)分析了金属离子对光箔腐蚀形貌和性能的影响.结果表明,电解液中单独添加Fe3+或Cu2+后,自腐蚀电位都正移,由于强的局部微电池效应,Cu2+的影响相对Fe3+更显著;单独添加Fe3+后,击穿电位下降,而击穿电位随Cu2+添加量的增加先增加后降低;Fe3+对蚀孔形貌的影响与其浓度有关,峰值孔径随Fe3+添加量的增加先增大后减小;而Cu2+对峰值孔径影响较小,但会减少蚀孔密度;另外,添加少量Fe3+有利于提升阳极箔520 V比容,从0.816×10-6 F·cm-2增加到0.828×10-6 F·cm-2,而添加Cu2+会降低阳极箔性能.
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篇名
电解液中金属离子对高压光箔腐蚀行为影响的研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
铝电解电容器
高压阳极箔
电化学腐蚀
极化曲线
金属离子
比电容
年,卷(期)
2019,(8)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
76-81
页数
6页
分类号
TM525
字数
2825字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.08.013
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作者信息
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何凤荣
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电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
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16
总被引数(次)
31758
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