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摘要:
利用电弧复合磁控溅射技术制备不同Ti/Al比的Ti-Al-C涂层,结合后续的退火处理制备Ti2AlC相涂层.利用SEM、EDS、XRD、Raman光谱仪和TEM等研究了Ti/Al比及退火温度对退火后Ti-Al-C涂层的相和微观结构的影响.结果 表明,Ti-Al-C沉积态涂层为富Al层和TiCx层交替堆垛的多层结构,涂层表面大颗粒较少且结构致密.Ti/Al比对退火后涂层中的相结构有重要的影响:当Ti/Al比为2.04时,退火后涂层中Ti2AlC的纯度和结晶度最高;Ti/Al比过高(3.06)时,退火后涂层中形成TiC和Ti3AlC杂质相,而低Ti/Al比(0.54)则大幅度降低Ti2AlC相的纯度和结晶度.同时,退火温度很大程度影响Ti2AlC相的形成,当沉积态涂层中Ti/Al比为2.38时,Ti2AlC相涂层形成的最佳退火温度为750℃,偏低的退火温度(600℃)下,原子不能充分扩散,难以形成211结构的Ti2AlC相,而退火温度过高时(900℃)涂层中存在较多的TiC、TiAlx等杂质相.
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Ti2AlC
TiC
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钛合金表面磁控溅射制备HA/YSZ梯度涂层
HA梯度涂层
射频磁控溅射
微结构
结合强度
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 电弧复合磁控溅射结合热退火制备Ti2AlC涂层
来源期刊 金属学报 学科 工学
关键词 电磁复合磁控溅射 Ti2AlC Ti-Al-C涂层 Ti/Al比 退火温度
年,卷(期) 2019,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 647-656
页数 10页 分类号 TB37
字数 语种 中文
DOI 10.11900/0412.1961.2018.00285
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电磁复合磁控溅射
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退火温度
研究起点
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金属学报
月刊
0412-1961
21-1139/TG
大16开
沈阳文化路72号
2-361
1956
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