表面光洁度对氧化处理工业纯锆干磨损行为的影响

• 作者: A.ALANSARI Y.SUN
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 锆 热氧化 氧化锆 表面光洁度 摩擦 磨损
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 88-97
• 页数: 10页
• 字数: 312字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(18)64918-0

摘要

研究在干磨条件下表面光洁度对氧化处理工业纯锆(CP-Zr)摩擦磨损性能的影响.CP-Zr试样经表面打磨后(Ra=0.21 μm),在650℃氧化6h.氧化后,部分试样经过抛光而取得镜面光洁度(Ra=0.04 μm).采用单向滑动试验对抛光和未抛光的氧化试样进行比较测试.结果 表明,表面抛光对氧化CP-Zr的干摩擦磨损性能有较大的影响,包括磨擦因数、磨损速率、裂纹形成和氧化层破裂.表面抛光加快在干磨擦过程中半圆形裂纹的形成和氧化层的破裂.在高接触应力下,稍微粗造的氧化表面有利于减缓裂纹的形成和耐磨性的提高.并对磨损机理,包括裂纹形成、扩展和断裂进行探讨.