离子后处理对TiO2光学薄膜及损伤特性的影响

• 作者: 兰云萍 张家斌 毛思达 王海珠 范杰 董家宁 邹永刚 马晓辉
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 电子束蒸发 光学常数 等离子后处理 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2019,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1451-1457
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3334字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20192707.1451

摘要

为了进一步提高TiO2薄膜的光学特性和激光损伤阈值,采用电子束蒸发技术在K9玻璃上沉积了单层TiO2薄膜,并用Ar/O混合等离子体对样品进行后处理.通过研究薄膜光谱特性、表面缺陷密度、薄膜表面形貌、薄膜损伤阈值以及薄膜损伤形貌,分析了等离子体后处理时间对TiO2薄膜激光损伤特性的影响.实验结果表明,随着等离子体后处理时间的增加,薄膜折射率及致密度提高,物理厚度减少,表面粗糙度下降,表面缺陷密度先减少后增加;在1064 nm激光辐射下,TiO2薄膜的激光损伤阈值从未经等离子后处理的5.6 J/cm2提升至后处理20 min的9.65 J/cm2,提升幅度高达72.3％,因此能够更广泛更稳定地应用在激光器中.