集成电路器件工艺先导技术研究进展

• 作者: 叶甜春
• 来源期刊: 科技导报
• 关键词: 鳍式场效应晶体管 CMOS 集成电路器件工艺
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 专题:集成电路
• 页码范围: 77-81
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

中国集成电路技术和产业经过了最新一轮十年的攻关,已经形成了较为系统的布局.分析了国内外集成电路制造技术和产业发展趋势以及中国集成电路制造技术研发布局,概述了22～14 nm节点工艺研发成果、7 nm节点工艺关键技术进展以及5 nm以下节点工艺新结构、新材料技术研发情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶甜春	中国科学院微电子研究所	200	911	14.0	18.0