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摘要:
InGaZnO薄膜晶体管(InGaZnO thin film transistor,IGZO TFT)与Cu互连组合的驱动背板,在生产线机台上的抗静电放电(electrostatic discharge,ESD)耐压能力比传统a-Si TFT背板低将近一个数量级电压,数据线和扫描线层间Mo/Cu互连抗击穿电压只有传统a-Si TFT背板层间Mo/Al/Mo互连的60% 左右.层间Cu互连的ESD破坏成为影响IGZO TFT超高清面板正常显示的一个重要因素.本文建立了扫描线层Cu金属扩散进入SiNx/SiO2绝缘层和数据线层Cu金属在爬坡拐角处扩散进入SiO2绝缘层,诱发层间Cu互连ESD破坏的机理模型.提出了Cu互连周边ESD保护电路架构三种基本结构的选型条件,以及保证层间Cu互连抗ESD击穿能力的ESD保护电路设计方法.利用本文提出的方法,有效降低了IGZO TFT背板的层间Cu互连ESD破坏风险.
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文献信息
篇名 InGaZnO薄膜晶体管背板的层间Cu互连静电保护研究
来源期刊 物理学报 学科
关键词 InGaZnO薄膜晶体管 Cu互连 SiO2绝缘层 静电放电
年,卷(期) 2019,(15) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 184-192
页数 9页 分类号
字数 4339字 语种 中文
DOI 10.7498/aps.68.20190646
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王海宏 7 29 4.0 5.0
2 张盛东 北京大学信息工程学院 13 47 4.0 6.0
6 马群刚 北京大学信息工程学院 2 1 1.0 1.0
10 陈旭 1 0 0.0 0.0
11 王婷婷 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
InGaZnO薄膜晶体管
Cu互连
SiO2绝缘层
静电放电
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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