SIFSIX-3-Ni膜的制备及氢气分离性质

• 作者: 任浩 姜双双 孙福兴 张舒皓 穆鑫
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: SIFSIX-3-Ni多晶膜 原位生长法 氢气分离
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 无机化学
• 页码范围: 1818-1824
• 页数: 7页
• 分类号: O614|O657
• 字数: 3034字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20190085

摘要

利用(NH4)2 SiF6修饰大孔玻璃基底后,在溶剂热条件下制备了SIFSIX-3-Ni膜,并研究了温度和浓度对制备SIFSIX-3-Ni膜的影响.能谱分析(XPS)结果表明大孔玻璃表面引入了氟元素.SIFSIX-3-Ni膜的粉末X射线衍射(PXRD)峰位置和模拟结果一致,表明成功制备出SIFSIX-3-Ni膜.从扫描电子显微镜(SEM)照片中观察到膜连续均匀,厚度约为20μm.热重分析(TGA)结果表明,活化前的膜没有客体分子.单组分测试结果表明,膜的H2,CO2和N2渗透量分别为6.83×10-6,7.42×10-7和8.89×10-7mol·m-2·s-1·Pa-1,H2/CO2和H2/N2的理想分离比分别为9.20和7.68.在连续测试5 h后,H2,CO2和N2渗透量基本保持不变,表明SIFSIX-3-Ni膜具有很好的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙福兴	吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室	17	56	4.0	7.0
2	穆鑫	吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室	1	0	0.0	0.0
3	姜双双	吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室	3	2	1.0	1.0
4	张舒皓	吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室	1	0	0.0	0.0
5	任浩	吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室	10	38	3.0	6.0