交流和纳秒脉冲激励氦气中等离子体 射流阵列放电特性比较

• 作者: 万梦 刘峰 张波 方志 汪立峰
• 来源期刊: 电工技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体射流 射流阵列 高频交流 ns脉冲 放电特性 均匀性
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 高电压与放电等离子体
• 页码范围: 1319-1328
• 页数: 10页
• 分类号: TM213
• 字数: 6400字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.180174

摘要

为获得大气压下均匀稳定的大尺度低温等离子体射流,用交流(AC)和纳秒(ns)脉冲电源激励在氦气中产生一维射流阵列放电,比较两种电源激励射流阵列的放电均匀性、瞬时功率、平均功率和发射光谱强度等放电特性和参量,并通过拍摄气流通道的纹影图像和估算射流单元之间的库仑力作用,研究和分析射流阵列的射流单元之间的流场和电场相互作用.结果表明,采用ns脉冲电源可以有效地提高射流阵的均匀性,增加等离子体羽长度、瞬时功率和粒子谱线强度,降低平均功率.不同于AC激励射流阵列,ns脉冲激励的射流阵列中两侧的射流单元几乎不发生偏转.采用ns脉冲激励可以同时减少气体加热作用和库仑力的排斥作用,从而有效地抑制射流单元之间的流场和电学相互作用,是提高射流阵列均匀性的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方志	南京工业大学电气工程与控制科学学院	79	835	17.0	23.0
2	刘峰	南京工业大学电气工程与控制科学学院	68	201	8.0	12.0
3	张波	南京工业大学电气工程与控制科学学院	19	22	3.0	4.0
4	汪立峰	南京工业大学电气工程与控制科学学院	4	0	0.0	0.0
5	万梦	南京工业大学电气工程与控制科学学院	1	0	0.0	0.0