磁粒研磨TC4孔棱边毛刺的机理及试验研究

• 作者: 刘新龙 张龙龙 焦安源 陈燕
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁粒研磨 复合轨迹运动 TC4 毛刺 毛刺高度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测
• 页码范围: 283-290
• 页数: 8页
• 分类号: TG356.28
• 字数: 3337字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.03.038

摘要

目的 探究磁粒研磨法去除TC4孔棱边毛刺的机理,寻求去除TC4孔棱边毛刺的最佳工艺方案.方法 分别对磁极单轨迹运动、磁极复合轨迹运动下磁粒研磨去除孔棱边毛刺的基本原理进行分析,分别利用ANSOFT和ANSYS软件对孔棱边处的磁场强度和切削力进行模拟分析.通过磁粒研磨法对孔棱边毛刺进行研磨去除试验,利用超景深3D显微镜测取孔棱边毛刺的微观形貌以及毛刺的高度.结果 磁极为单轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,研磨加工15 min后,TC4孔棱边的毛刺高度由原始的60μm左右降至5μm左右.磁极为复合轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,磁极公转速度为30 r/min,加工时间为12 min,TC4孔棱边的毛刺已经完全去除,且孔表面微观形貌较好.结论当磁极为复合轨迹运动时,相对于传统的磁极单轨迹运动,孔棱边毛刺的去除效率进一步提高,TC4孔表面微观形貌得到极大改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	焦安源		23	104	7.0	9.0
2	陈燕		81	464	12.0	18.0
3	张龙龙		7	9	2.0	2.0
4	刘新龙		7	7	2.0	2.0