氮化硅减反射膜制备工艺对组织结构及折射率影响的研究

• 作者: 付传起 杨梓健 王宙 项永矿 高越
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 减反射 氮化硅薄膜 太阳能电池
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 455-459
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2019.06.01

摘要

太阳能电池是一种清洁能源,近年来发展迅猛.减反射膜能大幅减少太阳能电池对光线的反射,从而提高电池光电转化率.为优化减反射效果,减反射膜设计多样,包括单层膜、双层膜、三层膜和多层膜,膜层不同对薄膜材料的折射率要求不同.氮化硅薄膜是一种优秀的硅基太阳能减反射膜,其折射率在1.78～2.5之间,调控范围广.本文采用脉冲激光沉积法制备氮化硅减反射膜,研究不同工艺参数对硅片上沉积的氮化硅薄膜性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付传起	大连大学机械工程学院	34	129	7.0	9.0
2	王宙	大连大学物理学院	41	226	10.0	12.0
3	高越	大连大学物理学院	3	1	1.0	1.0
4	杨梓健	大连大学物理学院	3	1	1.0	1.0
5	项永矿	大连大学物理学院	3	1	1.0	1.0