退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响

• 作者: 余德明 刘保剑 刘定权 李大琪 段微波 王天洪 陈刚
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 光学薄膜 Ta2O5/SiO2多层反射膜 退火 应力特性
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 166-172
• 页数: 7页
• 字数: 3347字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.68.20182247

摘要

介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200-600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计及激光干涉仪等测试手段,系统研究了退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构、光学性能以及应力特性的影响.结果表明:Ta2O5/SiO2多层反射膜退火后,膜层结构保持稳定,膜层表面粗糙度得到有效改善;反射膜在500-600℃退火后,残余应力由压应力向张应力转变;采用合适的退火温度可以有效释放Ta2O5/SiO2薄膜的残余应力,使薄膜与基底构成的介质膜反射镜具有较好的面形精度.本文的实验结果对退火工艺在介质膜反射镜面形控制技术方面的应用具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘定权	中国科学院上海技术物理研究所	49	176	8.0	12.0
2	段微波	中国科学院上海技术物理研究所	10	21	3.0	4.0
3	陈刚	中国科学院上海技术物理研究所	183	1886	20.0	37.0
4	李大琪	中国科学院上海技术物理研究所	12	52	4.0	7.0
5	刘保剑	中国科学院上海技术物理研究所	5	2	1.0	1.0
6	余德明	中国科学院上海技术物理研究所	5	2	1.0	1.0
7	王天洪	中国科学院上海技术物理研究所	1	0	0.0	0.0