磁控电流对Ti600钛合金表面WC-C膜组织和性能的影响

• 作者: 周程生 钟建
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 磁控电流 WC-C膜 摩擦磨损性能 Ti600合金
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 74-77
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

目前,利用离化C2H2和共溅WC靶相结合(PACVD+UBMS)制备WC-C膜,以及膜结构、性能与工艺参数间关系的文献报道较少.采有PACVD+UBMS在Ti600钛合金表面制备得到WC-C膜,分析了不同磁控电流条件下形成的膜的物相组织、微观结构、膜硬度以及膜基结合力,并进行了磨损试验测试.结果表明:磁控电流为0A时,磁控溅射膜中并没有形成WC对应的特征衍射峰,磁控电流3～12 A的WC-C膜中生成了WC的衍射峰,但WC-C膜内的WC相不稳定,WC-C膜表现为明显的梯度过渡结构;当磁控电流增大后,WC-C膜的膜基结合力将会随之增加,膜的弹性模量与硬度也随之减小;当磁控电流增大后,试样的磨损率也开始增加,磁控电流6A所得试样的磨损率最大;磨痕宽度也随磁控电流的增大逐渐增大,并出现了磨屑堆积现象,且发生了小块剥落现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周程生	集美大学轮机工程学院	12	12	1.0	2.0
2	钟建		1	0	0.0	0.0